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低溫等離子除臭裝置

低溫等(děng)離子(zǐ)除臭裝置

低溫等(děng)離(lí)子除臭裝置是利(lì)用這(zhè)些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的(de)目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除(chú)臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和(hé)廢氣(qì)中的汙染物作用(yòng),使(shǐ)汙染物分子在短(duǎn)的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的(de)的一種環保設備。




技(jì)術原理(lǐ) technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩(wěn)定(dìng)高頻放電,瞬間(jiān)產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特(tè)高壓(yā),擊穿廢氣。此階段中(zhōng),長鏈(liàn)、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其(qí)次,隨廢氣進入(rù)設備的水分子、氧分子(zǐ)被(bèi)高壓擊穿(chuān)斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧(yǎng)分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸(chù)氧化,加快反應(yīng)進程。整個(gè)反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量(liàng),促使(shǐ)長鏈、多鏈汙染物分子的分子(zǐ)鍵斷裂重組,使難處理(lǐ)的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離(lí)子(zǐ)體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概(gài)述

從等離子體反(fǎn)應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那(nà)些(xiē)獲得能量的汙染物分子(zǐ)被(bèi)激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性(xìng)基團與活性基團之間相互碰(pèng)撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力(lì)較(jiào)強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作(zuò)用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能(néng)量高,幾乎(hū)可以和所有的惡臭氣體分子作(zuò)用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成(chéng)熟;

  • 03

    采(cǎi)用防腐蝕材料,電極與廢(fèi)氣不直(zhí)接接觸(chù),根(gēn)本上解決了設備(bèi)腐蝕問題(tí);

  • 04

    隻需用電(diàn),操作(zuò)簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停(tíng)止十分迅速,隨用隨開,不受(shòu)氣溫的影響(xiǎng)。

適用範(fàn)圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及(jí)製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙(zhǐ)廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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