1.半導體工廠廢氣簡述

隨著科（kē）技的飛速發展，半導體在各個領域的應用越（yuè）來越（yuè）廣泛，如智能（néng）手機、電（diàn）腦、汽車等（děng）。然而半（bàn）導（dǎo）體（tǐ）工廠在生產過程中會產生（shēng）大量的廢氣汙染物，主要為酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣等汙染物。如果這些廢氣不經過有效的處理，直接排放到大氣中，不僅對環（huán）境造成（chéng）嚴重的汙染，還會對人體健康（kāng）造成傷害。因此，需要（yào）對半（bàn）導體工（gōng）廠廢氣進行淨化處理後達標排放。

2.半導體工廠廢氣處理方法

半導體（tǐ）工廠（chǎng）在生產過程中會產生廢氣，主（zhǔ）要為酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣等廢氣汙染物。酸性氣體采（cǎi）用堿液噴淋洗滌法處理（lǐ），堿性氣體（tǐ）采用酸（suān）液（yè）噴淋洗滌法處理，而對（duì）於有機廢（fèi）氣處理方法有很（hěn）多（duō）種，常見主要有活性（xìng）炭吸附法、燃燒法（fǎ）、UV光（guāng）解淨化法等（děng），接下來，天浩洋環保小編詳細介紹半（bàn）導體工廠廢氣處理方法。

2.1 酸性、堿性氣體（tǐ）處理方法

酸（suān）性廢氣處理方法是采用（yòng）“堿液（yè）噴（pēn）淋塔（tǎ）”進（jìn）行處（chù）理，以10%的氫氧化鈉溶液為吸收液。堿性廢（fèi）氣處理方法是采用“酸液噴淋（lín）塔”進行處理，以10%的硫酸溶液為吸收液。酸性、堿性廢氣洗滌淨化法，應用（yòng）相（xiàng）當普（pǔ）遍，具有運行穩定，處理效果好（hǎo），投資（zī）少，處（chù）理費用低等優點。

2.2 有機廢氣處理方法（fǎ）

（1）活性炭吸附法

活性炭吸附法主要原理就是利用多孔固體吸附劑（活（huó）性碳、矽（guī）膠、分子篩等）來處理有機廢氣，這樣就能夠通過化學鍵力或（huò）者（zhě）是分子引力充分（fèn）吸附有（yǒu）害成分，並且將其吸附在吸附劑的表麵，從而達到淨化有機廢氣的目的（de）。吸附法目前主要應（yīng）用於（yú）大風量、低濃度（≤800mg/m3）、無顆粒物、無粘性物、常（cháng）溫的低濃度有機廢氣淨化處理。

活性炭淨化率高（活（huó）性炭吸附可達到90%以上），實用遍及，操（cāo）縱簡單，投資低。在吸附飽和以後需要更換新（xīn）的活性（xìng）炭，更換活性炭需要費用，替換下來的飽和（hé）以後的活性炭也是需要找專業人員進行危廢處理，運行費用高。

（2）燃燒法

燃燒（shāo）法隻在揮發性有機物在（zài）高溫及（jí）空氣充（chōng）足的條件下進行完（wán）全燃燒，分解為CO2和H2O。燃燒法適用於（yú）各類有機廢氣，可（kě）以分為直（zhí）接燃燒、熱力燃燒和催化燃（rán）燒。

排放濃度大於5000mg/m³ 的高濃度廢氣一般采用直接燃燒法，該方法將VOCs廢氣作為燃（rán）料（liào）進行燃燒，燃燒溫度一般控製（zhì）在1100℃，處理效率高，可以達到95％一99％。

熱（rè）力燃燒（shāo）法適合於處理濃度在1000—5000 mg/m³ 的廢氣，采用（yòng）熱力燃燒（shāo）法，廢氣中VOCs濃度較低，需要借助其他燃（rán）料或助燃氣體，熱力燃燒所需的溫度較直（zhí）接燃燒低，大約為540—820℃。燃（rán）燒法處理有機（jī）廢（fèi）氣（qì）處理（lǐ）效率高，但有（yǒu）機廢氣若含有S、N等元素，燃燒後產生的廢氣直接（jiē）外排會導致二次汙染。

通過熱力燃燒或者催化燃燒法處理有機廢氣（qì），其淨化率是比較高的，但是其投資運（yùn）營成（chéng）本極高。因廢氣排放的點多（duō）且分散（sàn），很難實現集中收集。燃（rán）燒裝置需要多套且需（xū）要很大的（de）占地麵（miàn）積。熱力燃燒比（bǐ）較適（shì）合24小時連續不斷運行且（qiě）濃（nóng）度較高而穩（wěn）定的廢氣工況，不適合間（jiān）斷性的生產產（chǎn）線工況。催化燃燒的投資（zī）和（hé）運營費用相對熱力燃燒較低，但（dàn）淨化效率也相對較低一些；但貴金屬催化劑容易因為廢氣（qì）中的（de）雜質（如硫化物（wù））等造成中毒失效，而更換催化劑的費用很高；同時對廢氣進氣條件的控製非常嚴格，否則會造成催化燃燒室堵塞而引起安（ān）全事故。

（3）UV光解淨化法

UV光解淨化法利用高能UV紫（zǐ）外線光束分解空氣中的氧分子產（chǎn）生遊離氧（即（jí）活性氧），因遊離氧所（suǒ）攜（xié）帶正負電子不平衡所以需與氧分子結（jié）合，進而產生臭氧，臭氧具有很強的氧化性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使有機廢氣、惡臭氣（qì）體物質降解轉化成低分（fèn）子化合物、CO2和H2O。

UV光解淨化法具有高（gāo）效處理（lǐ）效率，可達到95%以上；適應性強，可適應中低濃度，大氣量（liàng），不同有機廢氣以及惡臭（chòu）氣（qì）體物質的淨化處理；產品性能穩定，運（yùn）行穩定可靠，每（měi）天可24小時連續工作；運行成本低，設（shè）備耗能低，無需專人管理與維護，隻需作定期檢查。UV光解法因采用光（guāng）解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱患，防火（huǒ）、防爆、防腐蝕性（xìng）能高，設（shè）備性能安全穩定，特別適用於（yú）化（huà）工、製藥等防爆要（yào）求高的行業。

以上關於半導體（tǐ）工廠廢（fèi）氣處理方法介紹，希望可以幫到您，其（qí）實（shí）對於半導體工廠廢氣處理，一般是需要根據廢氣的濃度、產生量、廢氣成分、如何收集等方麵進行設（shè）計（jì）收集處（chù）理。如果您有半導體工（gōng）廠（chǎng）廢氣（qì）需要淨（jìng）化處理，可以隨時撥打400 808 2272電話，谘詢天（tiān）浩洋環保（bǎo）,為您提供半導體（tǐ）工廠廢氣處理方案及設備。