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離子除臭設備

離子除臭設備

離(lí)子除(chú)臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性(xìng)粒(lì)子和廢氣中(zhōng)的汙染物(wù)作用,使汙染物(wù)分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的(de)目的的一種環(huán)保設備。
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  • 產品概述(shù)
  • 技術原(yuán)理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產(chǎn)品概(gài)述

離子除臭設備是(shì)利用這些(xiē)高能(néng)電子(zǐ)、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用(yòng),使汙染物分子在短的時間內發生(shēng)分解,以達到降解汙染物的目的的一(yī)種環保設備。




技術原理 technology principle

產品(pǐn)概述

  首先廢氣經均流板過濾棉(mián)進入設備(bèi)時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣分子(zǐ)由於(yú)鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一(yī)階(jiē)段淨化。

其次,隨廢(fèi)氣進入設備(bèi)的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團(tuán)羥基、臭氧分子等。這些(xiē)強氧化基團與廢氣分(fèn)子充(chōng)分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以(yǐ)激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子(zǐ)的分子(zǐ)鍵斷裂(liè)重組,使(shǐ)難處理(lǐ)的汙染物降解為較易處(chù)理的低碳汙(wū)染物。








等離(lí)子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產(chǎn)品概述

從等離子體(tǐ)反應過程可以看(kàn)出,電子先從電場獲得(dé)能量,通過激發或電離將(jiāng)能量轉移到汙染物(wù)分子中去,那些獲得(dé)能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基(jī)團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後(hòu)生成(chéng)穩定(dìng)產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子(zǐ)親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性(xìng)能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻(zǔ)擋放電產生的低(dī)溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣(qì)速限製,氣阻小,工(gōng)藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢(fèi)氣不直接(jiē)接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不(bú)受氣溫的影響。

適用(yòng)範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等(děng)市政設(shè)施,以及製藥廠、油漆(qī)廠、塗料(liào)廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠(chǎng)等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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