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低(dī)溫等離(lí)子除(chú)臭裝置

低溫等(děng)離(lí)子除臭裝置

低溫等離(lí)子(zǐ)除臭裝置是利用這些高能電子、自由(yóu)基等活性粒子和廢氣(qì)中的汙染(rǎn)物作用,使汙染(rǎn)物分子在短的時(shí)間內發生分解,以達到降解汙染物(wù)的(de)目的的(de)一種環保設備。

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  • 產品(pǐn)概(gài)述
  • 技術原理(lǐ)
  • 性能優勢
  • 適(shì)用範圍

產(chǎn)品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設(shè)備是利用這些高能電(diàn)子、自由基等活性(xìng)粒子和廢氣(qì)中的汙(wū)染物作用,使汙染(rǎn)物分(fèn)子在短(duǎn)的時間內發生分解(jiě),以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設(shè)備高壓穩定高頻放電,瞬間產(chǎn)生1.5萬伏特至2萬伏特(tè)高壓(yā),擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢(fèi)氣分子由於(yú)鍵能較弱(ruò),約束力較小。很容易被擊穿化學鍵(jiàn)破裂,從(cóng)而變成小分子化合物,此為第一(yī)階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的(de)水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基(jī)團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣(qì)分(fèn)子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可(kě)以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子(zǐ)鍵斷裂重組(zǔ),使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述(shù)

從等離(lí)子(zǐ)體反應過程可以看出,電子先從電場(chǎng)獲得能量,通(tōng)過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活(huó)性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基(jī)團之間相互碰撞後生成穩定(dìng)產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等(děng)電子親(qīn)和力較(jiào)強的物質俘獲,成為負離子。這(zhè)類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻(zǔ)擋放電產生的低溫等(děng)離(lí)子體(tǐ)中,電(diàn)子(zǐ)能量高,幾乎可以和所有的惡臭(chòu)氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不(bú)受氣速限製,氣阻小,工藝成熟(shú);

  • 03

    采用防腐(fǔ)蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需(xū)用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不(bú)受氣溫(wēn)的影(yǐng)響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及(jí)製藥廠、油(yóu)漆廠、塗料廠、皮(pí)革廠(chǎng)、石油(yóu)化工、農藥(yào)廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠(chǎng)等等工業場所。

UV光(guāng)解廢氣淨化設備適用範圍

在線留(liú)言(yán)

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