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離子除臭設備

離子除臭設備

離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染(rǎn)物作用,使汙染物分子在短的時間內發(fā)生分(fèn)解,以(yǐ)達到降解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設備。
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  • 產品概述
  • 技術(shù)原理
  • 性(xìng)能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概(gài)述

離子除臭設備是利用這些高(gāo)能電子、自由基等(děng)活性粒子和廢氣中(zhōng)的汙(wū)染物作用,使汙染物(wù)分子在短的時間內發生分解,以(yǐ)達(dá)到降解汙染物的目的的一種環保設備(bèi)。




技術(shù)原理 technology principle

產(chǎn)品概(gài)述

  首(shǒu)先廢氣經均流板過濾棉(mián)進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容(róng)易被擊穿化學鍵破裂,從而變(biàn)成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分(fèn)子、氧分子被高(gāo)壓擊穿斷裂,生成強氧化基團(tuán)羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化(huà)效率非(fēi)常高。

等離子功能段可以激發汙(wū)染物能量,促使長鏈、多鏈汙染(rǎn)物分子的分子鍵(jiàn)斷裂重組,使難處理的汙染物降(jiàng)解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電子(zǐ)先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染(rǎn)物分子中去(qù),那些獲得能量的汙染物(wù)分子被激發,同時有部分分子被電(diàn)離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基(jī)團與活性(xìng)基團之間相互碰(pèng)撞後生成穩定產物和(hé)熱。

另外,高(gāo)能電子也能被鹵素和氧(yǎng)氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離(lí)子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應(yīng)中起著重(chóng)要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等(děng)離子體中,電子(zǐ)能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製(zhì),氣阻小,工藝(yì)成熟(shú);

  • 03

    采用防腐蝕材(cái)料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單(dān),無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設(shè)備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施(shī),以(yǐ)及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮(pí)革廠、石油化工、農(nóng)藥廠(chǎng)、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等(děng)工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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