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低溫等離子除臭裝置

低溫等離子(zǐ)除臭裝置

低(dī)溫等離子除臭裝置是利用這些(xiē)高能電子、自由基等活性(xìng)粒(lì)子(zǐ)和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢(shì)
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫(wēn)等(děng)離子除臭(chòu)設備(bèi)是利用(yòng)這些高(gāo)能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物(wù)分子在短的(de)時間內發(fā)生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入(rù)設(shè)備時,由(yóu)設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分(fèn)子由於鍵能(néng)較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從(cóng)而變成小分子化合物,此(cǐ)為第一階段(duàn)淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水(shuǐ)分子、氧分子被高(gāo)壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸(chù)氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物(wù)能(néng)量,促使長鏈(liàn)、多鏈汙染物分(fèn)子的分子鍵斷裂重組(zǔ),使難(nán)處(chù)理的(de)汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子(zǐ)體反應(yīng)過程可以看出,電子先從電場獲(huò)得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能(néng)量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活(huó)性基團(tuán)。然(rán)後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物(wù)和熱。

另(lìng)外,高能電子也(yě)能被鹵素和氧氣等電子親(qīn)和力較強的物質俘獲,成(chéng)為負離子。這(zhè)類負離子具(jù)有很好的化學(xué)活性,在化(huà)學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等(děng)離子(zǐ)體中,電子(zǐ)能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分(fèn)子作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材(cái)料,電極與廢氣(qì)不直接接觸,根本(běn)上(shàng)解決(jué)了設備腐蝕(shí)問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分(fèn)迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市(shì)政設施,以及製藥廠、油漆廠(chǎng)、塗料廠、皮革廠(chǎng)、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工(gōng)廠等等工業場所。

UV光解廢(fèi)氣淨化設備適用範圍

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