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等離子除臭裝置

等(děng)離子除臭裝置

等離子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性(xìng)粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染(rǎn)物(wù)分子在短的時間內發生(shēng)分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技(jì)術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍(wéi)

產(chǎn)品概述 Product description

產品概述

等離子(zǐ)除臭裝置是利用這些高能電子、自由(yóu)基等活性粒子(zǐ)和廢(fèi)氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短(duǎn)的時間內(nèi)發生分解,以(yǐ)達到降解汙染物的目的的一種環保設(shè)備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備(bèi)高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至(zhì)2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分(fèn)子由於鍵能較弱,約束力較小。很(hěn)容易被擊穿化學鍵破(pò)裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等(děng)。這些強氧化基(jī)團與廢(fèi)氣分子充分接(jiē)觸氧化,加(jiā)快反應進程。整個(gè)反應幹淨,能(néng)量利用率高,淨化效(xiào)率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量(liàng),促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子(zǐ)鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程(chéng)可以看出,電子先從電場獲得能量,通(tōng)過激發或電離將能(néng)量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分(fèn)分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣(qì)、活性基(jī)團(tuán)與活性基(jī)團之間相互(hù)碰撞後生成穩定產物和熱。

另外(wài),高能電子也能被鹵素和氧氣等(děng)電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負(fù)離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢(shì) Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻(zǔ)小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料(liào),電極與廢氣不直接接(jiē)觸,根本上解決(jué)了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派(pài)專職人員看守,基(jī)本不占用人工費;

  • 05

    設備啟(qǐ)動、停止(zhǐ)十分(fèn)迅速,隨用隨(suí)開,不受(shòu)氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施(shī),以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢(fèi)氣淨化設備適(shì)用範圍

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