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低溫等離子除臭裝置

低溫等離(lí)子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性(xìng)粒子和廢氣中(zhōng)的汙染物(wù)作(zuò)用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以(yǐ)達到降解汙染物的目(mù)的的一種環(huán)保設備。

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  • 產品概述
  • 技術(shù)原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍(wéi)

產品概述 Product description

產(chǎn)品概述

低溫等離子除臭設(shè)備(bèi)是利用這些高能電子(zǐ)、自由基等(děng)活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概(gài)述(shù)

  首先廢氣經均流板過濾棉進入(rù)設備時,由(yóu)設備高壓穩(wěn)定高頻放電(diàn),瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵(jiàn)能較弱,約束力較小。很容(róng)易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子(zǐ)化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進(jìn)入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿(chuān)斷(duàn)裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸(chù)氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子(zǐ)功(gōng)能段可以激發(fā)汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物(wù)分子的分子鍵(jiàn)斷裂重組,使難處理的汙(wū)染物降解為較(jiào)易處理的低(dī)碳(tàn)汙(wū)染物。








等離子體化學反應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從(cóng)等(děng)離子(zǐ)體反應過程可以看出,電子先從(cóng)電(diàn)場獲得能(néng)量,通過激發或電離將能量轉移到汙染(rǎn)物分子中去,那些獲(huò)得能量的汙染物分子被激發,同(tóng)時有部分分(fèn)子被電(diàn)離(lí),從而(ér)成為活性(xìng)基團。然後這些活性基團與氧氣(qì)、活性基團與(yǔ)活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子(zǐ)也能被鹵素和氧氣等(děng)電子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在(zài)化(huà)學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電(diàn)產(chǎn)生的低溫(wēn)等離子體中,電(diàn)子能量高,幾(jǐ)乎可以和(hé)所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電(diàn)極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟(qǐ)動、停止十分迅速,隨用(yòng)隨開(kāi),不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等(děng)市政設施,以及(jí)製藥廠、油漆廠、塗料廠(chǎng)、皮革廠、石(shí)油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨(jìng)化設備適用(yòng)範圍

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