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低溫等離子除臭設備

低溫等離子除臭設(shè)備

低溫等離子除臭設備是利用(yòng)這些高能(néng)電子、自由基等活性粒子和(hé)廢氣中的(de)汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發(fā)生分解(jiě),以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概(gài)述
  • 技術原理
  • 性能優(yōu)勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低(dī)溫等離子除臭(chòu)設備(bèi)是利用(yòng)這些高能電子、自由基等活性粒子和(hé)廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時(shí)間內發(fā)生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。



技(jì)術原理 technology principle

產品概(gài)述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較(jiào)小。很容易被擊(jī)穿化學鍵破裂,從而(ér)變成(chéng)小分子化合(hé)物(wù),此為第一階段淨化。

其(qí)次,隨廢氣進入設備的水分(fèn)子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧(yǎng)化(huà)基團羥基、臭氧分(fèn)子等。這些強氧化基(jī)團與(yǔ)廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常(cháng)高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多(duō)鏈汙染物(wù)分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反(fǎn)應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激(jī)發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活(huó)性基團。然後這些活(huó)性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後(hòu)生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離(lí)子。這類負離子具有很好的化學活(huó)性,在化學反應中起著重要的作用。






性(xìng)能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離(lí)子體中,電子(zǐ)能量高,幾乎(hū)可(kě)以和所有的惡臭氣(qì)體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣(qì)速限製,氣阻小,工藝(yì)成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕(shí)問題;

  • 04

    隻需用電,操(cāo)作(zuò)簡單,無需派(pài)專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備(bèi)啟動、停(tíng)止十分迅速,隨用(yòng)隨開(kāi),不受氣溫的影響。

適用範(fàn)圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政(zhèng)設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠(chǎng)、造紙廠、飼料加工廠等(děng)等工業場所。

UV光(guāng)解廢氣淨化設備適用範圍

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