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等離子除臭裝置

等(děng)離子除臭(chòu)裝置

等離子除臭裝置是利用這些高能電(diàn)子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染(rǎn)物(wù)作用,使汙(wū)染物分子在短(duǎn)的時間內發生分解,以達到降解汙染(rǎn)物的目的的一種環保設備。
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  • 產品(pǐn)概述
  • 技(jì)術原理
  • 性能優(yōu)勢
  • 適用(yòng)範圍

產品概述 Product description

產(chǎn)品概述

等離(lí)子除臭裝置是(shì)利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間(jiān)內發生分解,以達到降解汙染物的(de)目的的一種環保設(shè)備(bèi)。




技術(shù)原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾(lǜ)棉(mián)進(jìn)入(rù)設備時,由設(shè)備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小(xiǎo)分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強(qiáng)氧化基團羥基(jī)、臭氧分子等。這(zhè)些(xiē)強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快(kuài)反應(yīng)進程。整個反應幹淨(jìng),能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段(duàn)可以激發汙染物(wù)能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物(wù)。








等離子體化學(xué)反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概(gài)述(shù)

從等離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而(ér)成(chéng)為活性基團(tuán)。然後這些活性基團與氧氣、活性基(jī)團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣(qì)等電(diàn)子(zǐ)親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學(xué)活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾(jǐ)乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接(jiē)觸,根(gēn)本上解決了設備腐蝕(shí)問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專(zhuān)職人員看守(shǒu),基本不占用人(rén)工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用(yòng)隨開,不受氣溫(wēn)的影(yǐng)響。

適用範圍(wéi) Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆(qī)廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農(nóng)藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢(fèi)氣淨化設備適用範(fàn)圍

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