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等離子除臭設備

等離(lí)子(zǐ)除臭設備

等離(lí)子除臭設備是(shì)利用這(zhè)些(xiē)高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染(rǎn)物作用,使汙染物分子在短的時間內發生(shēng)分解,以(yǐ)達到降(jiàng)解汙染物的目(mù)的的一種環保設備(bèi)。
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  • 產(chǎn)品(pǐn)概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品(pǐn)概述 Product description

產品概述

等離子除(chú)臭設備是利用這些高能電子、自(zì)由基等(děng)活性粒子和(hé)廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分(fèn)解,以(yǐ)達到降解汙染物(wù)的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣(qì)經均流板過濾棉(mián)進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產(chǎn)生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣(qì)。此階段中,長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約(yuē)束力較小。很容(róng)易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設(shè)備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這(zhè)些強氧化基團與廢氣分(fèn)子充分接觸氧(yǎng)化,加快反應進(jìn)程。整個反應幹淨,能(néng)量利用率高,淨化(huà)效率(lǜ)非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多(duō)鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的(de)汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體(tǐ)反應過程(chéng)可以看出(chū),電子先從電(diàn)場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中(zhōng)去,那(nà)些獲(huò)得能量的汙染物(wù)分子被激發,同時有部分分子被電離,從(cóng)而成為活(huó)性基團。然後這些活性基(jī)團與氧氣、活性基(jī)團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的(de)物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化(huà)學活性,在化學反應(yīng)中起著重要的作用。






性能優(yōu)勢(shì) Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的(de)低溫等離子體中,電子能量高,幾(jǐ)乎(hū)可以和所(suǒ)有的惡臭氣(qì)體分子作用;

  • 02

    反應快(kuài),不受氣速限製,氣阻小,工(gōng)藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不直(zhí)接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電(diàn),操作簡單,無需(xū)派專職人員看守(shǒu),基本(běn)不占用人工費;

  • 05

    設備啟動(dòng)、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響(xiǎng)。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料(liào)廠、皮革廠、石油化工(gōng)、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙(zhǐ)廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢(fèi)氣淨化設備適用範圍

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