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低(dī)溫等離子除臭裝置

低(dī)溫等離子除臭裝置

低溫等離子除(chú)臭裝置是利用這些(xiē)高能(néng)電子、自由基等(děng)活性粒(lì)子和廢氣中的汙染(rǎn)物作用,使汙染物分子在短的時間內發(fā)生分解,以達到降解汙(wū)染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技(jì)術原(yuán)理
  • 性能優勢
  • 適(shì)用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是利用這些(xiē)高能電子、自由基等活性粒(lì)子和廢氣中的汙染物(wù)作用,使汙染物(wù)分子在(zài)短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設(shè)備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣(qì)。此(cǐ)階(jiē)段中,長鏈、多鏈廢氣分子(zǐ)由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化(huà)合物,此為第一階段(duàn)淨化。

其次,隨(suí)廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強(qiáng)氧化基團羥基、臭氧分(fèn)子(zǐ)等。這些強氧化基團(tuán)與(yǔ)廢氣分子(zǐ)充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非(fēi)常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的(de)分(fèn)子鍵斷裂重組,使難處理的(de)汙染(rǎn)物降(jiàng)解為較易處(chù)理的(de)低(dī)碳汙(wū)染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品(pǐn)概述(shù)

從等離子(zǐ)體反應過程可以看出,電子(zǐ)先從電場(chǎng)獲得能量,通過激發或電離將能(néng)量轉移到汙(wū)染(rǎn)物分子中去,那些獲得能量(liàng)的汙(wū)染物分(fèn)子被激(jī)發,同時(shí)有部分分子(zǐ)被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基(jī)團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰(pèng)撞後生成穩定產物和熱。

另外(wài),高能電子也能被鹵素和氧(yǎng)氣等電子親和(hé)力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著(zhe)重要的作用。






性能(néng)優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的(de)低溫等離子體(tǐ)中,電子能量高(gāo),幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受(shòu)氣速限製(zhì),氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕(shí)材(cái)料(liào),電極與(yǔ)廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐(fǔ)蝕問題;

  • 04

    隻需(xū)用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不(bú)占(zhàn)用人工費;

  • 05

    設備啟動(dòng)、停止(zhǐ)十分迅速,隨用隨開,不受氣(qì)溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾(jī)、汙水廠等市政設施,以及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料(liào)廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所(suǒ)。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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