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等(děng)離子除臭設備

等離子除臭設備

等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分(fèn)子在(zài)短的時間內發生分解(jiě),以達到降解汙染物的目的的一(yī)種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優(yōu)勢
  • 適用範圍(wéi)

產品概述 Product description

產品概(gài)述

等離(lí)子(zǐ)除臭設備是(shì)利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短(duǎn)的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染(rǎn)物的目的的(de)一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈(liàn)、多鏈廢氣分(fèn)子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化(huà)學鍵破裂,從而變(biàn)成小(xiǎo)分子化合物,此(cǐ)為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被(bèi)高壓(yā)擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭(chòu)氧(yǎng)分(fèn)子等。這些強氧(yǎng)化基團與廢氣分子充分接(jiē)觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨(jìng),能(néng)量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的(de)分子鍵斷裂重(chóng)組,使難處(chù)理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過(guò)程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以(yǐ)看出(chū),電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去(qù),那些獲得(dé)能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離(lí),從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成(chéng)穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具(jù)有很好的(de)化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋(dǎng)放電產生的低溫等離子體中,電子(zǐ)能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成(chéng)熟;

  • 03

    采(cǎi)用防腐蝕材料(liào),電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占(zhàn)用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣(qì)溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造(zào)紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

在線留(liú)言

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